2025年5月15日-17日，由浙江大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院主辦、浙江省材料研究學(xué)會(huì)協(xié)辦的第七屆材料微結(jié)構(gòu)與性能學(xué)術(shù)會(huì)議在杭州成功舉辦。本屆會(huì)議聚焦 “材料顯微結(jié)構(gòu)、電池與催化、光電材料與器件、材料計(jì)算與人工智能” 四大核心領(lǐng)域，吸引了來(lái)自國(guó)內(nèi)外高校、科研院所及企業(yè)的千余名專家學(xué)者共襄盛舉。

CIF攜等離子清洗機(jī)、紫外臭氧清洗機(jī)、勻膠機(jī)、烤膠機(jī)參加驚艷亮相！深度探討“材料顯微結(jié)構(gòu)、電池與催化、光電材料與器件、材料計(jì)算與人工智能”等專題中的熱點(diǎn)、重點(diǎn)、難點(diǎn)和發(fā)展趨勢(shì)等問(wèn)題。交流相關(guān)研究成果與學(xué)術(shù)思想，產(chǎn)學(xué)研等前沿應(yīng)用，促進(jìn)材料學(xué)科建設(shè)與人才培養(yǎng)。

我司的展位憑借智能化、高精度、多場(chǎng)景適配的產(chǎn)品特性，吸引了眾多高?？蒲袌F(tuán)隊(duì)、企業(yè)技術(shù)骨干及行業(yè)專家駐足交流。

  在本次展會(huì)上，CIF展示的等離子清洗機(jī)采用等離子體技術(shù)，能夠有效去除材料表面的污染物，顯著提高工件表面的親水性。該設(shè)備在微電子、半導(dǎo)體、新能源等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用，為行業(yè)提供了高效、環(huán)保的清洗解決方案。

  紫外臭氧清洗機(jī)同樣備受關(guān)注。它利用紫外線和臭氧的協(xié)同作用，對(duì)材料表面進(jìn)行深度清潔，可有效去除光刻膠殘留和有機(jī)物污染，特別適用于對(duì)表面潔凈度要求高微電子制造和光學(xué)器件生產(chǎn)等行業(yè)。

  勻膠機(jī)和烤膠機(jī)也展現(xiàn)出性能。勻膠機(jī)能夠精確控制涂覆厚度，確保材料表面均勻覆蓋，為后續(xù)工藝提供穩(wěn)定基礎(chǔ)?？灸z機(jī)則具備快速升溫、精準(zhǔn)控溫等特點(diǎn)，可滿足不同材料和工藝的烘烤需求，廣泛應(yīng)用于芯片制造、印刷電路板等領(lǐng)域。

  在本次展會(huì)上，CIF展示的等離子清洗機(jī)采用的等離子體技術(shù)，能夠有效去除材料表面的污染物，顯著提高工件表面的親水性。該設(shè)備在微電子、半導(dǎo)體、新能源等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用，為行業(yè)提供了高效、環(huán)保的清洗解決方案。

  紫外臭氧清洗機(jī)同樣備受關(guān)注。它利用紫外線和臭氧的協(xié)同作用，對(duì)材料表面進(jìn)行深度清潔，可有效去除光刻膠殘留和有機(jī)物污染，特別適用于對(duì)表面潔凈度要求的微電子制造和光學(xué)器件生產(chǎn)等行業(yè)。

  勻膠機(jī)和烤膠機(jī)也展現(xiàn)出性能。勻膠機(jī)能夠精確控制涂覆厚度，確保材料表面均勻覆蓋，為后續(xù)工藝提供穩(wěn)定基礎(chǔ)。烤膠機(jī)則具備快速升溫、精準(zhǔn)控溫等特點(diǎn)，可滿足不同材料和工藝的烘烤需求，廣泛應(yīng)用于芯片制造、印刷電路板等領(lǐng)域。